第四百六十二章 EUV(2/2)

然说的也是实话，euv穿透物体时散射吸收都非常厉害，这使得光刻机需要非常非常强的光源，这个难度是巨大的。连空气都能吸收euv，所以机器内部还得做成真空的。

而且由于光刻精度是几纳米，euv对光的集中度要求极高，相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。反射要求镜子长30c，这相当于是燕京到沪上做根铁轨起伏不超过1毫米。

英特尔这些公开论文就是要让世人明白euv光刻机有多难，然后说英特尔取得了重大突破，至于什么突破，含糊其辞，用一句机密就解释了。

结果就在英特尔发公告的这一天，华夏突然宣布，将kbff晶体列为战略资源，不再对外出口...

孟谦看着新闻，突然有些莫名的兴奋，“看看谁先搞出euv光刻机吧...”

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